近日，武漢天河機場迎來了一箱比黃金還要貴重的進口設備!

據(jù)cnBeta、環(huán)球網(wǎng)、快科技等多家媒體證實，長江存儲從荷蘭阿斯麥(ASML)公司訂購的一臺光刻機已抵達武漢。這臺光刻機價值高達7200萬美元，約合人民幣4.6億元。

另據(jù)日經(jīng)亞洲評論(Nikkei Asian Review)上周報道，中芯國際也向阿斯麥下單了一臺價值高達1.2億美元的EUV(極紫外線)光刻機。這臺機器預計將于2019年初交貨。

每經(jīng)小編注意到，荷蘭當?shù)孛襟w《埃因霍溫經(jīng)濟報》也證實了上述消息。

從飛利浦獨立出來的阿斯麥公司在高端光刻機領域占據(jù)了全球90%的市場份額。光刻機(又稱曝光機)是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響。

▲法國研究所暗室中的小型曝光機

如今，中國兩家企業(yè)先后訂購了兩臺高端光刻機，總價值約12.3億元人民幣。據(jù)日經(jīng)亞洲評論報道，阿斯麥公司有關人士否認有媒體關于“高端光刻機對中國大陸禁運”的傳聞，強調(diào)對中國大陸客戶一視同仁。

此外，阿斯麥公司接受中芯國際訂單的時間點是在今年4月中興通訊遭遇美國制裁之后。

長江存儲迎來第一臺光刻機

2016年，紫光集團與國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金、湖北科投等合資成立了長江存儲，注冊資本額為人民幣386億元。長江存儲公司是中國高端芯片聯(lián)盟發(fā)起單位之一，被寄望推動中國半導體產(chǎn)業(yè)自主研發(fā)。

　▲長江存儲官網(wǎng)宣傳片截圖

據(jù)快科技等報道，長江存儲訂購的這臺光刻機采用193nm沉浸式設計，可生產(chǎn)20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓，售價達7200萬美元，約合人民幣4.6億元。

目前，該機已經(jīng)運抵武漢天河機場，相關入境手續(xù)辦理完畢后，即可運至長江存儲的工廠。

根據(jù)官網(wǎng)資料，2016年底，國家存儲器基地項目(一期)一號生產(chǎn)和動力廠房在武漢正式開工建設，2017年9月底提前封頂，2018年4月5日首批價值400萬美元的精密儀器進場安裝。

　▲國家存儲器基地項目芯片生產(chǎn)機安裝儀式(圖片來源：長江存儲官網(wǎng))

目前，長江存儲擁有完全自主知識產(chǎn)權的32層堆疊3D NAND閃存已經(jīng)開始試產(chǎn)，不少產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)都拿到了樣片測試，預計今年第四季度量產(chǎn)。同時，長江存儲還在推進64層堆疊3D閃存，力爭2019年底實現(xiàn)規(guī)模量產(chǎn)，將與世界領先水平差距縮短到2年之內(nèi)。

中芯國際進軍“7納米”時代

每經(jīng)小編注意到，2000年成立的中芯國際(SMIC)總部位于上海。在港股上市的中芯國際據(jù)稱是中國大陸規(guī)模最大、技術最先進的集成電路芯片制造企業(yè)之一。

據(jù)日經(jīng)亞洲評論報道，盡管中芯國際在這一市場仍落后于市場領先者兩至三代技術，但是購買到目前世界最先進的EUV光刻機，彰顯了其努力追趕的決心。

　▲阿斯麥官網(wǎng)產(chǎn)品示意圖

每經(jīng)小編了解到，EUV是目前世界上最昂貴也是最先進的芯片生產(chǎn)工具。小于5納米的芯片晶圓，目前只能用EUV光刻機生產(chǎn)。三星電子和臺積電目前正競爭生產(chǎn)7納米工藝技術芯片，這兩家都訂購了阿斯麥公司的EUV光刻機。

中芯國際這次引進的EUV光刻機預計將于2019年初交付。而在2017年3月，中芯國際宣布將進軍7納米工藝技術的研發(fā)。

有芯片行業(yè)高管表示，

“購買這樣的機器雖然不能保證100%成功，但這至少顯示了中芯國際自主研發(fā)的決心和動力。”

光學研究機構人士表示，

“這臺光刻機一旦安裝完成，將會極大縮短工藝時長，并且讓廠商有能力嘗試生產(chǎn)更復雜的高精度芯片。”

　　▲圖片來源：攝圖網(wǎng) (圖文無關)

中芯國際2017年凈利潤為1.264億美元，幾乎全部用于這臺光刻機的訂購了。2018年一季度，中芯國際凈利潤為2937萬美元。

中芯國際聯(lián)合首席執(zhí)行官趙海軍在5月10日的財報電話會議上稱，該公司將2018年芯片生產(chǎn)的全年資本支出從19億美元上調(diào)至23億美元。

光刻機：摩爾定律“守護神”

那么，這種無比金貴的光刻機，到底有什么樣神奇的魔力呢？

光刻機是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設備，制造和維護需要高度的光學和電子工業(yè)基礎，世界上只有少數(shù)廠家掌握。因此光刻機的價格昂貴，通常在3000萬至5億美元不等。

目前，雖然尼康、佳能等對手都在勉力競爭，但是阿斯麥公司掌握了90%以上的高端光刻機市場份額。最新的兩代高端光刻機領域，即浸入式(Immersion)和極紫外線式(EUV)光刻機，全部由阿斯麥掌握核心技術。

　　▲刻蝕后的晶圓(圖片來源：維 基百科)

光刻機的作用是掃描曝光芯片晶圓，刻蝕集成電路。精度越高的光刻機，能生產(chǎn)出納米尺寸更小，功能更強大的芯片。

目前，蘋果iPhone X和iPhone 8系列的核心處理器芯片，采用了臺積電的10納米工藝技術，而今年即將推出的新款iPhone將使用7納米工藝技術。阿斯麥的EUV光刻機，則能生產(chǎn)出5納米工藝級別的芯片。

因此，阿斯麥的光刻機甚至被稱為“摩爾定律”的守護神。眾所周知，摩爾定律是指每隔兩年左右一個芯片上的晶體管數(shù)量將翻一番，因此芯片的性能將相應提高。

隨著芯片面積越來越小，很多人開始擔心1965年提出的摩爾定律將要失效。但是光刻機的更新?lián)Q代，卻還在將芯片工藝推向極致，大體上維持著摩爾定律。

阿斯麥看好中國大陸市場

《瓦森納協(xié)定》是一項由40個國家簽署的協(xié)定，限制締約國向非締約國出售敏感性高科技技術。

此前曾有一種說法，認為最高端的光刻機技術受到《瓦森納協(xié)定》影響，被禁止向中國大陸出售。然而，阿斯麥公司發(fā)言人向日經(jīng)新聞駁斥了這一傳聞。

該發(fā)言人表示，阿斯麥公司對全球各地包括中國大陸在內(nèi)的客戶一視同仁，對中國大陸晶圓廠商的出口不受《瓦森納協(xié)定》等任何限制。

　▲圖片來源：攝圖網(wǎng) (圖文無關)

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